Vilken roll spelar kylaren i vakuumbeläggningsprocessen?

Vilken roll spelar kylaren i vakuumbeläggningsprocessen?

Arbetsprincipen för vakuumbeläggning är att filmkroppen avdunstar och faller på arbetsstyckets yta för att kristallisera vid hög temperatur . Eftersom luften på förångningen av membranmolekyler kommer att producera motstånd som orsakas av kristallkollisionen blir grov matt, så måste det vara i ett högvakuum för att göra kristallen fin och ljus, om vakuumet inte är högt kristall kommer att förlora glans och dålig bindning tvinga. Tidig vakuumbeläggning beror på förångning av naturlig spridning, kombinerad med dålig effektivitet, låg glans. Nu, förutom magnetronsputtermålet för mediumfrekvensen, accelereras de indunstande molekylerna i filmkroppen för att bombas målmaterialet under verkan av det elektriska fältet med magnetronmålet och ett stort antal målatomer sputteras ut och neutrala målatomer (eller molekyler) deponeras på substratet för att bilda en film som löser problemet med filmkroppssortimentet som inte kan behandlas genom naturlig förångning tidigare, såsom titan- och zirkoniumplätering och så vidare.

Om utrustning måste tillsätta kylvatten på grund av sin högfrekventa ström. När strömmen strömmar i ledaren har det en hudeffekt och laddningen ackumuleras i konduktans yta, så att konduktansen upphettas. Därför används mittenhålröret som ledare och vatten tillsätts för att kyla det.

Varför vattenkylning? Magnetronsputteringmål ger höga temperaturer under lansering som deformerar pistolen, så det har en jacka för att kyla pistolen. Samtidigt finns det en annan viktig orsak till att magnetronsputtering kan betraktas som en av de framstående prestationerna i z * i beläggningstekniken. Den har hög sputtermängd, låg substrattemperaturökning och bra filmbaserad vidhäftning.

Den allmänna principen om magnetronsputtering och den tvärgående icke-likformigheten och symmetrin av magnetfältet diskuteras. Magnetronsputtering kan betraktas som en av de framstående prestationerna hos z * i beläggningstekniken. Det kännetecknas av hög sputtermängd, låg substrattemperaturökning, god filmbaserad vidhäftning och stabil prestanda.

Chiller är en typ av vattenkylningsutrustning, kan ge konstant temperatur, konstant ström, konstant tryckkylvattenutrustning. Dess arbetsprincip är att spruta in en viss mängd vatten i vattentanken på maskinen först, kyl vattnet genom kylsystemet , och sedan skicka kylvattnet med låg temperatur till kylanordningen med vattenpumpen, temperaturen stiger efter att kylvattnet tar bort värmen och sedan flyter tillbaka till vattentanken för att uppnå kylningseffekten. Kylvattentemperaturen kan justeras automatiskt enligt kraven, långvarig användning kan spara vatten.

Kylaren kan styra temperaturen hos vakuumbeläggningsmaskinen för att säkerställa högkvalitativa beläggningsdelar. Om det inte är lämpligt för kylaggregatet kan vakuumbeläggningsmaskinen inte uppnå syftet med hög precision och hög effektivitetskontroll, eftersom värmedissippningen av naturligt vatten och vattentorn oundvikligen påverkas av den naturliga temperaturen och detta sätt att styra är väldigt instabil.

Kallvatten maskin har helt oberoende kylsystem, inte påverkat av temperatur och miljö, vattentemperaturen i 5 ℃ ~ 30 ℃ intervall justering kontroll, sålunda uppnå syftet med temperaturkontroll och hög precision, hög effektivitet, kallvatten maskin är utrustad med oberoende vattenåtervinningssystem.

IKS PVD , MF ( medium frekvens ) megnetron sputtering beläggningsmaskin , kontakta : iks.pvd@foxmail.com