Avdunstning

Avdunstning

Princip: Genom att värma målmaterialet (fast tillstånd) över dess smältpunkt förångas det till gasformiga atomer/molekyler. De gasformiga partiklarna flyger fritt i en vakuummiljö och kondenserar så småningom och avsätter sig på ytan av låg-temperatursubstratet för att bilda en film. Segmenttyper: motståndsavdunstning: genom motståndstråden uppvärmning av målmaterial med låg smältpunkt (såsom aluminium, guld), enkel utrustning, men uppvärmningstemperaturen är begränsad, är lämplig för metallfilm med låg smältpunkt. Elektronstråleförångning: med användning av högenergielektronstrålebombardement, målmaterial direkt uppvärmt internt målmaterial (för att undvika kontaminering av degeln), förångning av material med hög smältpunkt (såsom volfram, molybden, oxid), tunnfilm högre renhet, är metallkontakterna i halvledarskiktet, elektrodskiktet i det vanligaste teknikskiktet.

IKS PVD-företag, dekorativ beläggningsmaskin, verktygsbeläggningsmaskin, DLC-beläggningsmaskin, optisk beläggningsmaskin, PVD vakuumbeläggningslinje, nyckelprojektet är tillgängligt. Kontakta oss nu, e-e-post: iks.pvd@foxmail.com