Magnetron Sputtering Coating Technology

Magnetron sputtering beläggningsteknik har följande fördelar · avsättningshastigheten är stor. På grund av höghastighetsmagnetronelektroden är det erhållna jonflödet stort, vilket effektivt förbättrar beläggningsprocessens avsättningshastighet och sputterhastighet. Jämfört med andra förstoftningsbeläggningsprocesser har magnetronförstoftning en hög produktionskapacitet och stor uteffekt och används ofta i olika industriell produktion. · Hög effekteffektivitet. Magnetronförstoftningsmålet väljer i allmänhet en spänning inom intervallet 200V-1000V, vanligtvis 600V, eftersom spänningen på 600V ligger precis inom det högsta effektiva intervallet för effekteffektivitet. · Låg sputterenergi. Magnetronmålspänningen appliceras låg, och magnetfältet begränsar plasman nära katoden, vilket förhindrar högre energiladdade partiklar från att falla in på substratet. · Substrattemperaturen är låg. Anoden kan användas för att leda bort elektronerna som genereras under urladdning, utan att behöva jorda substratstödet, vilket effektivt kan minska elektronbombardementet av substratet, så temperaturen på substratet är låg, vilket är mycket lämpligt för vissa plastsubstrat beläggningar som inte är alltför motståndskraftiga mot höga temperaturer. · Ojämn etsning på ytan av magnetronförstoftningsmålet. Den ojämna ytetsningen av magnetronförstoftningsmålet orsakas av målets ojämna magnetfält, och målets lokalpositionsetsningshastighet är stor så att målets effektiva utnyttjandegrad är låg (endast 20 %-30 % utnyttjandegrad). Därför, om du vill förbättra målets utnyttjandegrad, måste du ändra magnetfältsfördelningen på vissa sätt eller använda magneten för att röra sig i katoden, vilket också kan förbättra målets utnyttjandegrad. · Sammansatt mål. Sammansatt målpläteringslegeringsfilm kan tillverkas. För närvarande har Ta-Ti-legering, (Tb-Dy)-Fe och Gb-Co-legeringsfilm framgångsrikt pläterats genom sammansatt magnetronmålförstoftningsprocess. Det finns fyra typer av sammansatta målstrukturer, som är runt mosaikmål, fyrkantigt mosaikmål, litet fyrkantigt mosaikmål och fläktmosaikmål, bland vilka fanmosaikmålstrukturen är bäst. · ett brett utbud av applikationer. Många grundämnen kan avsättas genom magnetronförstoftningsprocessen, vanliga är Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti, Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO, etc. Magnetisk kontrollbeläggningsteknik är en av de mest använda beläggningsprocesserna för många högkvalitativa filmteknologier, med olika filmtyper, stark styrbarhet av filmtjocklek, hög filmvidhäftning, bra förtätning och en mycket vacker ytfinish.

IKS PVD-företag, dekorativ beläggningsmaskin, verktygsbeläggningsmaskin, DLC-beläggningsmaskin, optisk beläggningsmaskin, PVD vakuumbeläggningslinje, det nyckelfärdiga projektet är tillgängligt. Kontakta oss nu, e-post: iks.pvd@foxmail.com