Inverkan av magnetronförstoftningsprocessparametrar: Mål-basavstånd

Inverkan av magnetronförstoftningsprocessparametrar: mål-basavstånd

Den kemiska sammansättningen och strukturen av den kvartära beläggningen (Cr,Ti,Al) N kan justeras genom att ändra avståndet mellan målet och substratet, och beläggningens olika egenskaper kan påverkas. Jin Jie et al. använde magnetronförstoftningsteknik för icke-jämvikt med stängt fält för att avsätta (Cr,Ti,Al) N-beläggningar på H13 stålmatris, och studerade och analyserade tjockleken, sammansättningen och egenskaperna hos (Cr,Ti,Al) N kvartära beläggningar under olika mål- basavstånd (80~180 mm) [61]. De experimentella resultaten visar att med ökningen av mål-basavståndet kommer magnetfältets intensitet att minska snabbt, och jonströmtätheten kommer också att minska, vilket kommer att leda till en minskning av avsättningshastighet och beläggningstjocklek. Dessutom, med ökningen av mål-basavstånd, minskar halten av metallelement i (Cr,Ti,Al) N-beläggningar kontinuerligt, medan halten av kväveelement ökar kontinuerligt. Beläggningsytans mikrohårdhet och den filmbaserade bindningskraften ökade först och minskade sedan. Slitagevolymen och nötningshastigheten för beläggningen minskade emellertid först och ökade sedan, det vill säga slitstyrkan hos beläggningen ökade först och minskade sedan. Detta beror på att beläggningens hårdhet och bindningskraft har en viktig inverkan på dess friktions- och slitageegenskaper. Ju lägre filmbaserad bindningskraft är, desto mer sannolikt är det att beläggningen spricker och flagnar under friktion, vilket minskar beläggningens slitstyrka.

IKS PVD-företag, dekorativ beläggningsmaskin, verktygsbeläggningsmaskin, DLC-beläggningsmaskin, optisk beläggningsmaskin, PVD vakuumbeläggningslinje, det nyckelfärdiga projektet är tillgängligt. Kontakta oss nu, e-post: iks.pvd@foxmail.com