Kemisk ångdeposition (CVD)

kemisk ångavsättning (CVD)

CVD-teknologin använder gasformiga föreningar eller blandningar av föreningar för att genomgå kemiska reaktioner på substratets uppvärmningsyta, vilket resulterar i bildandet av en icke-flyktig beläggning på substratets yta.
Fördelar: enkel manövrering, stark flexibilitet, lämplig för enkel- eller kompositmembran och membranskikt; Bred tillämplighet; Avsättningshastigheten kan nå flera mikron till hundratals mikron per minut, hög produktionseffektivitet; Lämplig för beläggning av komplex formmatris; Beläggningen har god kompakthet.
Nackdelar: hög deponeringstemperatur, lätt att leda till försämring av substratets prestanda; Reaktionsgas och restgas kan vara frätande, brandfarliga och till viss del giftiga. Beläggningen är mycket tunn.
CVD-metoden tillämpas huvudsakligen i två allmänna riktningar:
1, beredning av beläggning, förbättra och förbättra ytprestandan hos material eller delar för att förbättra eller förbättra oxidationsbeständighet, slitstyrka, korrosionsbeständighet och vissa elektriska, optiska och tribologiska egenskaper hos material eller delar.
2. Utveckla nya strukturella material. För närvarande har CVD-teknik använts i stor utsträckning i många aspekter, såsom skyddsfilm, mikroelektronisk teknik, solenergiutnyttjande, optisk fiberkommunikation, supraledningsteknik, beredning av nya material och så vidare.
Dessutom, vid beredningen av pulvermaterial, att använda en effektiv och stabil katalysator för att främja CVD-pulverberedningsprocessen, eller att kombinera med fysikaliska metoder för att framställa pulvermaterial under låga temperaturer och höga vakuumförhållanden har blivit den framtida riktningen för kemisk ångavsättningsteknologi utveckling.

IKS PVD-företag, dekorativ beläggningsmaskin, verktygsbeläggningsmaskin, DLC-beläggningsmaskin, optisk beläggningsmaskin, PVD vakuumbeläggningslinje, det nyckelfärdiga projektet är tillgängligt. Kontakta oss nu, E-post:iks.pvd@foxmail.com