olika typer av CVD-utrustning

Det finns olika typer av CVD-utrustning. För närvarande är PECVD den vanliga tekniken, och dess marknadsandel förväntas öka ytterligare i framtiden. CVD, en ny teknologi som utvecklats under de senaste decennierna för att framställa oorganiska material, hänvisar till den process där ämnen i gas- eller ångtillstånd reagerar på gasfasen eller gränsytan gas-fast för att generera fasta sediment. Kemisk ångavsättning (CVD) har använts i stor utsträckning för att rena ämnen, utveckla nya kristaller och deponera alla typer av enkristall-, polykristall- eller glasartade oorganiska tunnfilmsmaterial. Dessa material kan vara oxider, sulfider, nitrider, karbider eller binära eller multivariata interelementföreningar av grupperna III-V, II-IV och IV-VI, och deras fysikaliska funktioner kan kontrolleras exakt genom dopningsprocesser i gasfas. CVD-beläggningens repeterbarhet och stegtäckning är bra och kan användas för SiO2, Si3N4, PSG, BPSG, TEOS och andra mediumfilmer, såväl som halvledare, metall (W), alla typer av metall-organisk föreningsfilmavsättning. Det finns många typer av CVD, som grovt kan delas in i APCVD, LPCVD, SACVD, PECVD, MOCVD och andra kategorier beroende på kammartrycket och extern energi. CVD-utrustning är lätt att erhålla reaktionskällor, beläggningskomponenter är olika och utrustningen är relativt enkel, speciellt lämplig för ytbeläggning av komplexa delar och inre hål.

IKS PVD-företag, dekorativ beläggningsmaskin, verktygsbeläggningsmaskin, DLC-beläggningsmaskin, optisk beläggningsmaskin, PVD vakuumbeläggningslinje, det nyckelfärdiga projektet är tillgängligt. Kontakta oss nu, E-post:iks.pvd@foxmail.com