grundprincipen för sputteringbeläggning
Apr 02, 2020| den grundläggande principen om sputterande beläggning: under vakuumtillståndet för argon (Ar) gas, argongas glödutsläpp, sedan argon (Ar) atomer joniserade till argonjon (Ar), argonjon i verkan av elektrisk fältkraft, accelererad bombardering till katodmålmaterialet framställt av pläteringsmaterialet kommer målmaterialet att sputra ut och avsättas på arbetsstyckets yta. De infallande jonerna i sputtringsfilmen erhålles vanligtvis genom glödutladdning i intervallet l0-2pa ~ 10Pa, så att sputtringspartiklarna är lätta att kollidera med gasmolekylerna i vakuumkammaren när de flyger mot matrisen, vilket gör rörelseriktningen slumpmässig och den deponerade filmen är lätt att vara enhetlig.
IKS PVD Technology (Shenyang) Co, Ltd ， PVD vakuumbeläggningsmaskinstillverkare från Kina, vår huvudsakliga produkt: dekorativ beläggningsmaskin, verktygsbeläggningsmaskin, optisk beläggningsmaskin, PVD-beläggningslinje. Mer information, kontakt: iks.pvd@foxmail. com