klassificering av CVD
May 06, 2024| klassificering av CVD
Enligt skillnaden i normalfastillståndet för den CVD-reaktiva materialkällan kan den vidare definieras som
1. Gasformig materialkälla: ämnen som är gasformiga vid rumstemperatur (H2, N2, CH4, Ar, etc.). När den gasformiga materialkällan används förenklas beläggningsanordningssystemet avsevärt eftersom endast reaktionsgasens flödeshastighet behöver styras av flödesmätaren, snarare än temperaturen.
2. Källor för flytande material: reaktiva ämnen som är flytande vid rumstemperatur, såsom TiCl4, CH3CN, SiCl4 och BCl3. Mängden vätskematerialkälla som kommer in i avsättningskammaren styrs genom att styra bärgasen och uppvärmningstemperaturen när vätskematerialflödet används.
3. Fasta materialkällor: Ämnen som är fasta vid rumstemperatur, såsom AlCl, NbCl5, TaCl5, ZrCl5 och HfCl4. Eftersom denna typ av material behöver sublimera den erforderliga mängden ånga vid en högre temperatur, måste uppvärmningstemperaturen och bärförmågan kontrolleras strikt när man använder denna typ av process.
IKS PVD-företag, dekorativ beläggningsmaskin, verktygsbeläggningsmaskin, DLC-beläggningsmaskin, optisk beläggningsmaskin, PVD vakuumbeläggningslinje, det nyckelfärdiga projektet är tillgängligt. Kontakta oss nu, e-post: iks.pvd@foxmail.com