kemisk ångavsättning (CVD)

kemisk ångavsättning (CVD)

Kemisk ångavsättning (CVD) är en process som genererar fasta avlagringar genom reaktion av ämnen i gasformigt eller ångformigt tillstånd vid gränssnittet gasfas eller gas-fast ämne. Kemisk ångdeposition (CVD) är en ny teknik som utvecklats under de senaste decennierna för att framställa oorganiska material. Kemisk ångavsättning har använts i stor utsträckning för att rena ämnen, framställa nya kristaller och deponera olika monokristallina, polykristallina eller glasartade oorganiska filmmaterial. Dessa material kan vara oxider, sulfider, nitrider, karbider eller binära eller heliga elementära interelementföreningar i grupperna III-V, II-IV, IV-VI, och deras fysikaliska funktioner kan kontrolleras exakt genom gasdopade avsättningsprocesser.
Processen för kemisk ångavsättning är uppdelad i tre viktiga steg: diffusionen av reaktiv gas till matrisytan, adsorptionen av reaktiv gas till matrisytan, bildandet av fast sediment genom kemisk reaktion på matrisytan och separationen av gasformiga biprodukter från matrisytan. De vanligaste kemiska ångavsättningsreaktionerna är termiska nedbrytningsreaktioner, kemiska syntesreaktioner, och kemiska transportreaktioner.

IKS PVD-företag, dekorativ beläggningsmaskin, verktygsbeläggningsmaskin, DLC-beläggningsmaskin, optisk beläggningsmaskin, PVD vakuumbeläggningslinje, det nyckelfärdiga projektet är tillgängligt. Kontakta oss nu, E-post:iks.pvd@foxmail.com