Applicering av elektronstråleindunstning

Applicering av elektronstråleindunstning - beredning av TiO 2 film genom elektronstråleindunstning

Beläggningsprincip för elektronstråleindunstning för att förbereda TiO 2 -film, med hjälp av det automatiska optiska beläggningssystemet INTEGRITY-39 med jonstråleassisterad elektronstråleindunstning som visas i figuren nedan.

0010010 nbsp; 1. Kylvatteninlopp; {{2}}. Kylvattenuttag; 3. Degel; 4. Beam spiral; 5. Elektronstrålsändare; 6. Värmelampa; 7. Underlagsram; 8. Motorn; 9. Övervakning film; 1 0. Arbetsspänningen för provelektronpistolen framställd genom jonkällplätering är 1 0 kV, strömmen är {{2}} 00 A, och avsättningstemperaturen för vakuumkammaren är 1 45 ~ 1 55 ℃. Svart granulär Ti 2 O 3 med en renhet av 9 9. 99% valdes för membranmaterialet. Cc - 1 05 kall katodjonstråle användes för extra avsättning. Under avsättningen fylldes vakuumkammaren med O 2 med en renhet av 9 9. 99% som reaktionsgas. Innan beläggningen rengörs, rengörs underlaget med glaslösning, sköljs med avjoniserat 0010010 nbsp; vatten och torkas med kväve. Därefter rengörs underlaget med 99. 9% aceton och vattenfri etanol-ultraljudvåg i 15 min vardera. Efter torkning med specialtorkpapper laddas det i vakuumkammaren. När vakuumet pumpas till {{5}}. 5 × 10-4pa med mekanisk pump och diffusionspump är den automatiska pläteringsprocessen inställd. När underlaget upphettas till avsättningstemperaturen på 1 5 0 ℃ börjar jonkällan att bombardera substratet, och energin styrs vid {{5}} 0 ~ 9 0 eV i 10 min.

sedan startas elektronpistolen automatiskt att värma och avdunsta filmmaterialet, och avsättningshastigheten är 0. 38 ~ 0. 42 nm / s. När filmen deponeras till designtjockleken på 440 nm stänger programmet automatiskt elektronpistolen och pläteringen är klar. Efter beläggning kyldes vakuumkammaren naturligt till rumstemperatur och provet togs ut. Spektraltest av prov TiO 2 genomfördes med Lambda 900 (testområde 175 ~ 3 300 nm) spektrofotometer. Den faktiska tjockleken, utsläckningskoefficienten och brytningsindex för TiO 2 -film beräknades med Macleod-mjukvarukonvolutmetoden. Effekterna av olika vakuumgrader på den filmbildande kvaliteteny, brytningsindex och absorptionskoefficient för TiO 2 studerades med olika flöden av hög renhet syre in i vakuumkammaren. När TiO 2 tunn film deponeras genom indunstning med hjälp av jonkälla vid hög vakuumgrad listas vakuumgraden med passagen av syre i följande tabell. Eftersom syre-molekylerna i vakuumkammaren joniseras till syrejoner och reagerar med Ti {{2}} O 3 ångmolekyler fullständigt, förloras syre vid nedbrytningen av Ti {{{{4} }}} O 3 fylls på, och den resulterande TiO 2 i filmen är relativt ren. Men om syretillförseln är otillräcklig eller reaktionen mellan Ti {{2}} O 3 och O 2 är otillräcklig, är den högabsorberande titanoxidfilmen tino {{{{ 4}}}} n - 1 (n=1, {{2}, ..., 1 0). Med ökningen av syreflödet ökar kollisionssannolikheten mellan TiO 2 ångmolekyler och syremolekyler i processen med avdunstning och energin går förlorad, vilket minskar den kinetiska energin för TiO 2 avsatt på substratet ytan och påverkar vidhäftningen och förtätningen av den avsatta filmen. För optiska tunna filmer kan jonkällstödet öka molekylernas kinetiska energi på substratytan, inte bara har en betydande inverkan på filmens brytningsindex, utan kan också förbättra filmtätheten och fuktbeständigheten, och filmen vidhäftningen på underlaget förbättras också avsevärt.

IKS-OPT2700 optical E-gun vacuum coating machine，more details,contact: iks.pvd@foxmail.com