High Power Pulsed Magnetron Power Supply

Fördelar med högspänningspulserad magnetronsputteringsteknik (HIPIMS) ◆ Den konventionella DC-magnetronimpulsströmmen är begränsad av målets termiska spänning. ◆ Det mesta av jonkollisionsenergin kan direkt omvandlas till värmeproduktion av målet. ◆ Pulserad magnetron kraftkälla ...

Skicka förfrågan
Ladda ner

produkt introduktion

Fördelar med högspänningspulserad magnetronsputteringsteknik ( HIPIMS )

◆ Den konventionella DC-magnetronimpulsströmmen är begränsad av målets termiska spänning.

◆ Det mesta av jonkollisionsenergin kan omvandlas direkt till värmeenergin i målet.

◆ Den pulserande magnetronströmkällan säkerställer hög pulsffekt och låg arbetscykel.

◆ Den pulserande magnetronströmkällan kan direkt byta ut strömkällan med DC magnetron.

Jämförelse mellan högspänningspulserad magnetronsputteringavladdning och likadan magnetronsputteringavladdning

Egenskaper hos High Power Pulsed Magnetron Sputtering Utmatning	Funktioner av Dc Magnetron Sputtering Utmatning
Katodladdningsspänningen är 500 ~ 2000 V, strömtätheten är upp till 3 ~ 4A / cm2.	Magnetfältintensiteten är 0,01 ~ 0,05 T medan arbetsspänningen är 300 ~ 700 V under den typiska DC-magnetronen sputtering arbetstryck (1 ~ 10 mTorr).
Elektrondensiteten nära substratytan: 10 ¹⁸ ~ 10 ¹⁹ m ^- ³	Elektrondensiteten nära substratytan: 10 ¹⁵ ~ 10 ¹⁶ m-3
Effektdensitet: 1 ~ 3kW / cm ²	Låg joniseringshastighet (~ 1%) av målet under förstoftning.
Frekvens: 100 ~ 1000Hz	Inertgasjoner är i majoriteten
Driftscykel: 1% ~ 10%	Ytterligare extrajoniseringsutrustning (RF of mikrovågsugn) behövs.

Egenskaper med högspänningspulserad magnetronsputtering strömförsörjning

◆ Den positiva och negativa elektrodutmatningen styrs av höghastighetsomkopplaren för att undvika att den kommer in i bågeutmatningsområdet från det onormala glödutsläppsområdet hos den traditionella magnetronutsputningen. Den aktuella densiteten är upp till 1018-1019 / m3, vilket är extremt högre än den traditionella magnetronutsputningen. Och med extremt hög joniseringshastighet på 80% -99%, kan den enkelt lägga in en rad avancerade filmer med stark vidhäftning.

◆ Högspänningspulserad magnetronsputteringskraft ger bättre filmegenskaper med avseende på filmkonsistens, hårdhet, slitstyrka och vidhäftning.

◆ Med högimpulsström och låg arbetscykel kan kraftuttag med hög effektpulserad magnetronutspädning ersätta DC Magnetron Sputtering-strömkällan direkt utan att byta ut den ursprungliga magnetronutspädningsbeläggningsutrustningen.

◆ PHP-bågsundertryckstekniken säkerställer att användarna kan styra filmens kvalitet mer bekväm vid ytbehandlingsprocessen. Med funktionerna i spänningsstabilisering och idealisk coup de foue, kan strömförsörjningen effektivt hämma bågningen på arbetsstyckets yta och avsevärt förbättra produktionsutbytet, ytfinheten och filmadhesionen hos pläteringsstyckena.

◆ Den kraftfulla pulserade magnetronströmförsörjningen antar avancerad högfrekvent växelriktare för omkoppling av strömkällor och hög effekt IGBT-effektmodul.

◆ Med hjälp av pekskärmens mikrokontroller är strömförsörjningen mycket integrerad och kraftfull med enkel drift. Displayen av ström och spänning är mycket tydlig och intuitiv. Den stöder också flerkanals höghastighetsräkning och höghastighetspulsfunktion.

◆ Strömförsörjningen har skyddsfunktioner för överström, överspänning och över temperatur.

◆ Strömförsörjningen kan kommunicera med värddatorn via de digitala portarna som RS232, RS485, WIFI och så vidare, vilket utökar sin styrfunktion.

Produktspecifikation

Produktmodell	EP50A80H
Ingångseffekt och frekvens (V / Hz) Tre fas och fyra trådar	Ac380 + N
Ingångseffekt och frekvens (V / Hz) Tre fas och fyra trådar	60Hz
Utgående strömområde (A)	0 ~ 500
Noggrannhet för konstant voltag och konstant ström	≤1%
Nominell utgångsspänning (DCV)	800
Maximal genomsnittlig effekt (KW)	40
Toppkraft (KW)	400
Tullsats (%)	<>
Vikt (kg)	60
Externa dimensioner (MM)	575 (D) x 480 (B) × 250 (H)
Isolationsgrad	B
Produktivitet (%)	90
Kapslingsklass	IP21
Driftläge	Konstant spänning, konstant ström och konstant strömförhållanden är valfria.
Kylningsläge	Vattenkylning
Externt gränssnitt	Denna serie produkter alla Adoptera pekskärmens mikrokontroller

Jämförelse mellan Power Power Impulse Magnetron Sputtering Power Source EP50A80H och andra produkter

	High-Power Impulse Magnetron Sputtering
varumärke	Huttinger	Hauzer	IKS
Modell	Truplasma Highpulse 4000	HIPIMS +	EP50A80H
Max genomsnittlig effekt	20kW	20kW	40kW
Toppeffekt	1 MW ~ 8MW	360KW	400 kW
Spänning	1KV, 2 kV	800	800
Nuvarande	1 kA, 2KA, 4KA	600	500
Arc Detection	<>	<>	<>
Förpackning (B * H * T)	483x635x676	null	480x268x700

Fördelar med högspänningspulserad magnetronsputtering Effekt EP50A80H

◆ Hög tillförlitlighet

EP50A80H ger mer utmärkta filmegenskaper med avseende på filmkonsistens, hårdhet, slitstyrka och vidhäftning.

◆ Utmärkt bågskyddsteknik

EP50A80H antar PHP-bågsuppressionsteknik, så användarna kan bekvämt styra filmens kvalitet vid ytbehandlingsprocessen för att få bättre filmstruktur.

◆ God kompatibilitet

EP50A80H kan ersätta den befintliga magnetronsputteringens strömförsörjning direkt. Istället för att ersätta katodmaterial och magnetfält behöver användarna bara byta kylsystem.

◆ Hög effekt till volymförhållande

Hög volymförhållande gör det lättare för användare att integrera installationen av utrustning.

Ansökan

High Power MF magnetron sputtering kraftkälla används ofta i plasma, fysikaliska, kemiska, medicinska och olika vetenskapliga forskningsområden, det kan uppfylla ett brett spektrum av processkrav speciellt i vakuumbeläggningsutrustning.